解決方案
雷射退火
高產能UV雷射退火設備介紹
「SWA-20USH」 實現以擴大光束尺寸改善吞吐量
＜設備規格比較＞
＜要點＞
- 在維持Top Hat形狀的同時，光束尺寸擴大至φ130um，以實現1.5倍吞吐量
- 採用SHI獨自設計開發的特殊光學系
■新光学系（採用特殊光學系）
■光束形狀
維持Top hat形狀的同時，光束大小擴大至φ130um。
■SWA-20US的改造
可從現有機SWA-20US進行改造。
■DEMO評價
可提供實施DEMO照射。如有DEMO需求，請透過以下信箱聯絡我們。
MAIL: shi.laser.sales@shi-g.com
下載 [高產能UV雷射退火設備介紹] 相關的资料